半导体制造被誉为工业领域的“皇冠明珠”，其生产过程对水质纯净度的要求达到了近乎苛刻的程度。超纯水（UPW）作为贯穿晶圆清洗、蚀刻、光刻、化学机械研磨等核心工序的“工业血液”，其质量直接决定了芯片的良率、性能和可靠性。以下是半导体行业必须严格监控的核心水质参数及其重要性：

一、核心物理与化学指标

电阻率/电导率 (Resistivity/Conductivity)

意义： 衡量水中离子杂质总量的黄金标准，是超纯水纯度的最直接体现。

标准： 理论上最纯水的极限电阻率为 18.24 MΩ·cm @ 25°C。半导体厂要求产水点持续稳定达到或无限接近此值 (通常>18.0 MΩ·cm)。任何下降都预示着Na、K、Cl、等离子的污染。常用台式电导率水质测定仪进行检测。

影响： 离子污染会导致栅氧化层缺陷、金属导线腐蚀、结漏电流增大，严重降低器件性能和可靠性。

总有机碳 (Total Organic Carbon - TOC)

意义： 表征水中所有有机污染物（如溶剂残留、微生物代谢物、管道浸出物）的总量。

标准： 要求控制在极低的 ppb (μg/L) 级别，先进制程要求通常 < 1 ppb 甚至更低。

影响： 有机物会在晶圆表面形成难以去除的“水痕”或有机膜，干扰光刻胶粘附与图形形成，引起氧化层生长异常，并可能成为后续工艺中颗粒的来源。

颗粒物 (Particle Count)

意义： 检测水中悬浮的固体微粒数量及粒径分布。

标准： 关注 亚微米甚至纳米级颗粒 (如 >0.05 μm, >0.1 μm)。要求每毫升水中特定粒径的颗粒数严格控制在个位数或更低。

影响： 这是芯片制造的“致命杀手”。即使一个微小的颗粒落在关键区域，也可能导致电路短路（桥接）、断路、栅氧击穿，造成芯片直接报废。随着制程节点缩小（如3nm, 2nm），对更小粒径颗粒的控制要求愈发严苛。

溶解性二氧化硅 (Dissolved Silica - DSiO? & Reactive Silica)

意义： 硅是半导体基底材料，但其溶解态形式是超纯水系统中最难去除且危害极大的污染物之一。

标准： 需严格区分总硅、溶解硅和活性硅，并分别控制在极低 ppb 水平。

影响： 高温工艺中，硅会在晶圆表面和精密设备（如扩散炉管）内析出形成坚硬、绝缘的硅垢（硅沉积），破坏器件结构，阻塞超细管路，导致良率暴跌和设备停机。

二、生物与气体指标

微生物/细菌总数 (Total Viable Count - TVC or Bacteria)

意义： 监测水中微生物（细菌、真菌）的活性水平。

标准： 要求达到 <1 CFU (菌落形成单位)/100mL 甚至 <1 CFU/L 的“无菌”状态。

影响： 微生物及其形成的生物膜（Biofilm）是颗粒物和TOC的重要来源。微生物代谢产物（有机酸、酶）会腐蚀材料、污染表面；死亡菌体成为颗粒；活菌可能在特定工艺中繁殖，造成灾难性污染。

溶解氧 (Dissolved Oxygen - DO)

意义： 衡量水中溶解的氧气含量。

控制策略： 需分工艺区别对待。某些清洗步骤需低氧甚至无氧环境（通过脱氧塔去除），以防止金属氧化；而在分配循环系统中，维持一定量的DO（如ppb级）有助于抑制厌氧菌生长和减缓某些金属的腐蚀速率（钝化作用）。关键在于精确控制其浓度范围。

半导体制造是“失之毫厘，谬以千里”的精密工程。一颗纳米级的颗粒、一个ppb级别的离子、或一个未被察觉的细菌菌落，都足以毁掉价值数千美元的晶圆。因此，对上述水质参数的持续、精准、全面的检测与控制，绝非简单的合规要求，而是半导体工厂维持高良率、保障设备寿命、控制生产成本、并最终实现尖端芯片量产的核心竞争力所在。